日本高亮度光科学研究中心（JA SRI理化学研究所及神岛化学工业公司组成的研究小组，研究小组利用X光机转换为可见光。胜利开发出能分辨200纳米结构的高分辨率X光成像探测器。这款X光探测器拥有全球最高的分辨率，能获得前所未有的高精细X光图像。

开发了无接合层的5微米厚透明薄膜闪烁体，大幅提高了光学特性，实现了接近X光安检机成像理论极限的200纳米分辨率。利用该探测器，研究小组胜利拍摄了超大规模集成电路（VLSI器件内部300纳米宽的布线。这是全球首次以实用水平画质无损拍摄出VLSI内部的微细布线。